| 產(chǎn)品/服務(wù): | 四氟甲烷 |
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| 有效期至: | 長(zhǎng)期有效 |
| 最后更新: | 2017-09-27 |
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在常溫下,四氟化碳是無(wú)色、無(wú)臭、不燃的可壓縮性氣體,揮發(fā)性較高,是最穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一,在900℃時(shí),不與銅、鎳、鎢、鉬反應(yīng),僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時(shí),會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物。
二、四氟化碳特性值
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國(guó)標(biāo)編號(hào) |
22033 |
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CAS號(hào) |
75-73-0 |
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中文名稱(chēng) |
四氟甲烷 |
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英文名稱(chēng) |
tetrafluoromethane;carbon tetrafluoride |
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別 名 |
R14;四氟化碳 |
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分子式 |
CF4 |
外觀與性狀 |
無(wú)色無(wú)臭氣體 |
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分子量 |
88.01 |
蒸汽壓 |
13.33kPa(15.07℃) |
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熔 點(diǎn) |
-183.6℃ 沸點(diǎn):-128.0℃ |
溶解性 |
不溶于水 |
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密 度 |
相對(duì)密度(水=1)1.61(-130℃) |
穩(wěn)定性 |
穩(wěn)定 |
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危險(xiǎn)標(biāo)記 |
5(不燃?xì)怏w) |
主要用途 |
用作低溫致冷劑及集成電路的等離子干 法蝕刻技術(shù) |
三、四氟化碳質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)
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項(xiàng)目ITEM |
公司標(biāo)準(zhǔn)COMPANY STANDARD |
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純度CF4% |
≥99.9 |
≥99.99 |
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氮?dú)猓?/span>N2)的體積公數(shù)/10-6 |
≤350 |
≤40 |
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氧氣(O2)的體積分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤350 |
≤20 |
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水分(H2O)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤5 |
≤1 |
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一氧化碳(CO)的體積分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤20 |
≤10 |
|
二氧化碳(CO2)的體積分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤80 |
≤10 |
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酸度(以HF計(jì))的質(zhì)量分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤0.5 |
≤0.1 |
|
其它氟碳化合物(F-)的體積分?jǐn)?shù)/10-6 |
實(shí)測(cè) |
≤10 |
|
總雜質(zhì)的體積分?jǐn)?shù)/10-6 |
≤1000 |
≤100 |
四、四氟化碳主要用途
作為低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術(shù),四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。四氟化碳的溶氧性好,因此被科學(xué)家用于超深度潛水實(shí)驗(yàn)代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功,在275米到366米的深度內(nèi),小白鼠仍可安全脫險(xiǎn)。
包裝:50kg鋼瓶包裝
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